强基工程

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技术先进性说明:

适用于0.35-0.11μm集成电路等

主要技术参数:

NMC508M 8英寸铝金属刻蚀机是电感耦合高密度等离子体干法刻蚀机,主要用于200mm硅片的金属铝和钨的刻蚀工艺。NMC508M为多腔室集群设备(Cluster Tool),是一个全自动的、能够进行串行或并行工艺处理的刻蚀系统。该系统主要由传输模块(Transfer Module)、金属刻蚀工艺模块(Metal Etch Process Module)、去胶模块(Strip Process Module)、冷却模块(Cooling station)、电源柜(Remote AC Power Rack)和控制柜(Control Rack)等组成,其中金属刻蚀工艺模块用于进行金属刻蚀工艺,去胶模块用于去除金属刻蚀后的残余光刻胶和残余腐蚀性气体,冷却模块用于为晶圆降温,传输模块用于把硅片安全而准确地传送到指定工位,电源柜用于为系统提供电源,控制柜用于协调调度各个模块的运转。NMC508M铝金属刻蚀机通过独特的腔室结构和温度控制设计,提供优良的颗粒控制能力,维护便利,大幅提升了设备的稳定性、重复性和生产工艺水平。

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